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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務(wù)
首頁(yè) > 產(chǎn)品&服務(wù) > 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 > 高溫氧化退火爐

高溫氧化爐(1500）

設(shè)備特點(diǎn)： 

 ◆適應(yīng)多種規(guī)格尺寸工藝片：小方片、不規(guī)則及2、4、6英吋晶圓

 ◆優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，占地面積小

 ◆靈活多樣的工藝調(diào)整

 ◆操作使用維護(hù)極為方便

 ◆極高的精度指標(biāo)及可靠性

 產(chǎn)品性能： 

 ◆工藝溫度可達(dá)1350/1500℃（爐體可達(dá)更高的溫度）

 ◆小批量R&D為5片/爐，生產(chǎn)型為50片/爐

 ◆手動(dòng)裝卸片/全自動(dòng)盒對(duì)盒裝卸片（Cassette to Cassette）

 ◆常壓/真空壓力控制，極限<10-3mbar，工藝壓力：800～1000mbar

 ◆爐型結(jié)構(gòu)：水平/垂直


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