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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務(wù)
首頁 > 產(chǎn)品&服務(wù) > 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 > 高溫氧化退火爐

高溫退火爐（2200）

氧化爐，退火爐

設(shè)備特點(diǎn)：

◆適應(yīng)多種規(guī)格尺寸工藝片：小方片、不規(guī)則及2、4、6英吋晶圓

◆優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，占地面積小

◆靈活多樣的工藝調(diào)整

◆操作使用維護(hù)極為方便

◆極高的精度指標(biāo)及可靠性

 配套工藝：

◆適應(yīng)多種規(guī)格尺寸工藝片：小方片、不規(guī)則及2、4、6英吋晶圓

◆工藝溫度可達(dá)2200℃（爐體可達(dá)更高的溫度）

◆小批量R&D為5片/爐，生產(chǎn)型為50片/爐

◆常壓/壓力控制，極限＜10-3mbar，工藝壓力：1～250mbar


氧化爐，退火爐

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