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氧化爐,擴散爐,LPCVD設備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務
首頁 > 產(chǎn)品&服務 > 半導體工藝設備 > 精密熱處理爐

真空爐(內(nèi)加熱)

產(chǎn)品性能:

◆工藝尺寸:2~12英吋

◆200~1200℃,恒溫區(qū)多點控溫

◆石英管真空室結構

◆快冷、真空壓力、氣氛等的多工藝控制方式

◆反應室容積大,高潔凈,高生產(chǎn)效率


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