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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務(wù)
首頁(yè) > 產(chǎn)品&服務(wù) > 真空/氣氛爐系列 > 其它真空氣氛爐

產(chǎn)品性能:

◆內(nèi)熱式,多面加熱,石墨/鎢鉬/RF等加熱,高溫度均勻性

◆高真空度(10-4Pa~0.5/10MPa),壓升率(漏率)優(yōu)異

◆溫度、快冷、真空、壓力、氣氛等全參數(shù)控制

◆工藝溫度:1300℃/1600℃/2400℃或更高

◆工藝壓力:真空/常溫/正壓/高壓(至10MPa)

◆研發(fā)型:5-10kg/爐,生產(chǎn)型:100kg/爐,300kg/爐


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