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1350/1500℃高溫氧化爐系統(tǒng)應(yīng)用于2”4”6”SiC或Si晶圓片的高溫氧化等的特殊工藝。?
用于2”4”6”SiC或GaN的高溫退火、活化等的特殊工藝。
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