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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務(wù)
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全自動氧化擴(kuò)散LPCVD爐

氧化爐，擴(kuò)散爐，LPCVD

產(chǎn)品性能：

 ◆全自動：盒到盒（Cassette To Cassette）

 ◆模塊化設(shè)計(jì),SEMI標(biāo)準(zhǔn)

 ◆滿足4～8/12英吋晶圓工藝

 ◆每臺1～4/5管，石英/SiC反應(yīng)管

 ◆恒溫區(qū)：800/1000/1250mm

 ◆溫度：200～1300℃/1350℃

 ◆全自動機(jī)械手裝卸，懸臂/軟著陸

 ◆高集成度，完整的工廠MES系統(tǒng)對接

 配套工藝：

 ◆擴(kuò)散爐：氣態(tài)/液態(tài)/固態(tài)源磷硼擴(kuò)散 

 ◆氧化爐：干氧/濕氧（DCE，HCL）

 ◆氮、氫退火，燒結(jié)、合金、固化等

 ◆鎵、鋁擴(kuò)散，LP POCl3

 ◆LPCVD工藝：多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2，磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG，TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

 ◆PECVD工藝：氮化硅、氧化硅等。


氧化爐，擴(kuò)散爐，LPCVD

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