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氧化爐,擴(kuò)散爐,LPCVD設(shè)備廠家LOGO

產(chǎn)品&服務(wù)
首頁 > 產(chǎn)品&服務(wù) > 半導(dǎo)體工藝設(shè)備 > 氧化擴(kuò)散LPCVD爐

8"氧化LPCVD爐(生產(chǎn)型）

產(chǎn)品性能：

◆垂直結(jié)構(gòu)，高效產(chǎn)能，150片/批

 ◆穩(wěn)定優(yōu)良的成膜均勻性，重復(fù)性好

 ◆微環(huán)境低氧控制先進(jìn)技術(shù)

 ◆硅片顆粒度控制穩(wěn)定，國際標(biāo)準(zhǔn)

 ◆全自動(dòng)流程，盒對(duì)盒，21盒存儲(chǔ)

 ◆高集成度，完整的工廠MES系統(tǒng)對(duì)接

 ◆符合SECSⅡ/HSMS/GEM等標(biāo)準(zhǔn)

配套工藝：

◆氧化：干氧/濕氧（DCE, HCL）

 ◆氮、氫退火（快速熱退火），燒結(jié)、合金，固化等

 ◆LPCVD工藝：多晶硅，氮化硅，氧化硅（PSG、BPSG等），TEOS,LTO/HTO,SIPOS等。


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