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氧化擴(kuò)散LPCVD爐

設(shè)備詢價(jià)

產(chǎn)品詳情

+ 產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品性能：

◆4～8寸晶圓工藝，1～4/5管

◆恒溫區(qū)：800/1000/1250mm

◆溫度：200～1000℃

◆高精度可靠的自動(dòng)壓力控制系統(tǒng)

◆自動(dòng)機(jī)械手進(jìn)出舟，懸臂/軟著陸

◆晶圓自動(dòng)倒片，完整的工廠MES系統(tǒng)對(duì)接，符合SECSⅡ/HSMS/GEM等標(biāo)準(zhǔn)

配套工藝：

◆干濕氧化、擴(kuò)散、退火、合金激活，LP-POCl3擴(kuò)散，鎵鋁擴(kuò)散等

◆LP多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2

◆LP磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG

◆LP TEOS，LTO，HTO，SIPOS...

◆PE 氮化硅、氧化硅等。

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